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BTF-1200C-SL-A等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)PX 2788
C2GR16-立式氣相沉積爐PX 2840
FPSEM-ICP200D等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2822
LPCVD-2低壓化學氣相沉積系統(tǒng)LPCVDPX 2027
Labcoater Series 300Parylene派瑞林鍍膜機PX 2799
GS-30-700廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3851
PECVDPX 3158
TRP450沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 3937
Batch Type部件鍍膜設備PX 1950
TF-1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2624
CVD化學氣相沉積裝置PX 2894
CYRANNUS微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3135
金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備PX 2939
FL-800N低溫化學氣相沉積冷卻系統(tǒng)-試驗用冷水機PX 6564
CC-200日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設備PX 5160
ICP-500D薄膜沉積CVDPX 2990
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3120
ZT-60-15立式化學氣相沉積爐PX 4211
等離子體化學氣相沉積設備PX 2183
轉(zhuǎn)移多壁碳納米管垂直陣列(化學氣相沉積法)PX 3624
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3206
TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3343
PECVD-500A-D智能型PECVD系統(tǒng)(含壓力控制系統(tǒng))PX 2788
BTF-1200C-R-S-PECVD化學氣相沉積PX 2788
BTF-1200C-S-SL-CVD非氣態(tài)源化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2788
BTF-1200C-II-AS-500A智能型雙溫區(qū)等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2788
BTF-1200C-S-PECVD微型PECVD系統(tǒng)管式爐PX 2788
CY-PECVD100-1200-QCVD化學氣相沉積系統(tǒng)PX 4926
GS-30-700(廣樹)高溫化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3851
Parylene派瑞林真空鍍膜設備PX 2799
Cluster system等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)PX 2799
Series 2000旋轉(zhuǎn)鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設備PX 2799
Series 3000 CR進口parylene派瑞林鍍膜設備PX 2799
Series 3000 LV 800/1000派瑞林parylene真空鍍膜設備PX 2799
Series 3000 LV 600/700派瑞林parylene鍍膜設備PX 2799
Serie 3000 StandardParylene派瑞林真空鍍膜機PX 2799
Labcoater Series 100Parylene派瑞林鍍膜設備PX 2799
PVD500沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 3937
DZS500沈陽科儀高真空電子東及熱阻薄膜沉積系統(tǒng)PX 3937
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低壓化學氣相沉積系統(tǒng)LPCVD
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日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設備
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